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AR-BR 5400光刻胶 双层Lift-Off工艺底层胶

AR-BR 5400 双层Lift-Off工艺底层胶 可以得到稳定的Lift-off结构，利于金属的沉积。在制作双层工艺时，需要和正胶AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。从270nm到红外区，有良好的光学透明性，热稳定性好。

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产品介绍

AR-BR 5400

双层Lift-Off工艺底层胶
可以得到稳定的Lift-off结构，利于金属的沉积。在制作双层工艺时，需要和正胶AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。从270nm到红外区，有良好的光学透明性，热稳定性好。
参数信息
外观状态： 固体或粉末
质量指标： 95%+
溶解条件： 有机溶剂/水
CAS号： N/A
分子量： N/A
储存条件： -20℃避光保存
储存时间： 1年
运输条件： 室温2周
生产厂家： 西安齐岳生物科技有限公司
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