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产品名称：CHO-PEG-MAL的常见问题与解决方案

 常见问题与解决方案

Q：如何避免CHO基团与MAL基团的交叉反应？

A：

分步反应法：

先在pH 7.0下完成MAL反应（10分钟），再调节pH至6.0进行CHO反应（30分钟），交叉反应率<3%。

竞争性阻断：

在MAL反应前加入过量2-巯基乙醇（10 eq），优先消耗游离MAL基团，再通过透析去除2-巯基乙醇。

Q：CHO-PEG₂₀₀₀-MAL修饰后如何检测偶联率？：

A：

MALDI-TOF质谱：

直接检测分子量偏移（如偶联抗体后增加44 kDa，对应PEG₂₀₀₀与MAL基团的总质量）。

巯基定量法：

使用Ellman试剂检测反应前后游离巯基浓度变化，计算MAL偶联率（线性范围0.01-5 μmol/L）。

Q：CHO-PEG₂₀₀₀-MAL是否会影响纳米颗粒的胶体稳定性？

A：

空间位阻效应：

PEG₂₀₀₀使纳米颗粒表面电荷密度降低30%（Zeta电位从-30 mV降至-21 mV），但通过掺入聚乙二醇化磷脂（如DSPE-PEG₂₀₀₀, 10 mol%）可恢复至未修饰水平。

优化策略：

采用混合链长PEG（如PEG₁₀₀₀-CHO与PEG₅₀₀₀-MAL混合），平衡胶体稳定性与反应活性。

温馨提示：仅用于科研，不能用于人体实验！wyh

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