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CAS:7440-44-0,CVD玻璃基底石墨烯膜的机械性能
发布时间:2026-01-08     作者:YFF   分享到:

中文名称:化学气相沉积玻璃基底石墨烯膜
英文名称:Chemical Vapor Deposition Graphene Film on Glass Substrate

制备工艺:
采用化学气相沉积(CVD)技术,在铜基底上生长单层石墨烯后,通过聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)支撑转移法将其转移至玻璃基底表面。该工艺可实现大面积(>10 cm²)均匀成膜,且膜层缺陷密度低(<10⁸ cm⁻²)。

光学特性:
石墨烯膜在可见光波段透光率高达97%以上,几乎不影响玻璃基底的光学性能。其表面电阻低至30-100 Ω/sq,可替代传统氧化铟锡(ITO)透明导电膜,用于柔性显示屏、触摸屏及太阳能电池等领域。

机械性能:
石墨烯膜与玻璃基底结合力强,弯曲半径可小至1 mm而不发生脱落或断裂。其高柔韧性(断裂伸长率>15%)与高模量(>1 TPa)使其在可穿戴设备、曲面显示等场景中具有独特优势。

功能化应用:
通过表面修饰或复合其他材料,可进一步拓展其功能。例如,负载金纳米颗粒后可作为表面增强拉曼散射(SERS)基底,实现对痕量分子(如农药残留)的高灵敏度检测;与二氧化钛复合则可用于自清洁玻璃涂层,提升材料耐候性。

CVD玻璃基底石墨烯膜

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供应商:西安齐岳生物科技有限公司

公司简介:

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