中文名称：一步转移氮化硼薄膜
英文名称：One-Step Transferred Boron Nitride Film

制备工艺：
一步转移氮化硼薄膜采用化学气相沉积（CVD）法在金属基底（如铜、镍）上生长高质量氮化硼（BN）薄膜，通过聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）作为支撑层实现无损转移。该方法将生长后的氮化硼/PMMA复合膜直接转移至目标基底（如SiO₂/Si、玻璃、PET），经低温烘干和丙酮浸泡去除PMMA后，获得完整氮化硼薄膜。此工艺简化传统多步转移流程，降低破损风险，适用于柔性电子器件和高温传感器领域。

材料特性：
氮化硼薄膜具有类石墨烯的六方晶格结构，呈现高介电性、高温热稳定性（空气中稳定至1000℃）及抗氧化性。其平面内机械强度与热导率接近石墨烯，化学稳定性优于后者。单层氮化硼薄膜厚度约0.33纳米，带隙为5.97 eV，可作为金属绝缘金属结构的超薄间隔层或电子隧道阻挡层，适用于纳米电容器和场效应晶体管。

应用领域：
在电子器件中，氮化硼薄膜用作二维材料的绝缘衬底，减少器件漏电流；在柔性电容器中，其高介电常数提升能量密度；在发光器件中，作为透明封装层保护发光层。此外，氮化硼薄膜还可用于高温传感器，检测丙酮、乙醇等气体，或作为中子辐射屏蔽材料。

市场现状：
国内供应商提供1-3英寸铜基氮化硼薄膜，覆盖率达90%-95%，晶粒尺寸＞4微米，保质期6-12个月。部分企业支持定制尺寸和层数，价格区间为3500-4200元/片，满足科研与小批量生产需求。

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供应商：西安齐岳生物科技有限公司

公司简介：

西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域，精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括：高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点（CdSe/ZnS、CdTe等）、多孔金属有机框架（MOF）纳米材料，以及表面功能化修饰的纳米载体（如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊）。产品粒径精准可控（5-2000纳米），支持定制化开发。

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