中文名称:CVD玻璃基底石墨烯膜,化学气相沉积玻璃基底单层石墨烯薄膜
英文名称:CVD Graphene Film on Glass Substrate
制备工艺与结构特性
CVD玻璃基底石墨烯膜通过化学气相沉积法(CVD)制备,以铜箔为初始生长基底,甲烷为碳源,在高温下催化裂解生成单层石墨烯,随后通过聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)支撑转移技术将石墨烯转移至玻璃表面。该薄膜厚度约0.345纳米,单层覆盖率超95%,透光率达97%以上,表面电阻约400-500Ω/sq。其二维蜂窝状晶格结构赋予其高载流子迁移率,且与玻璃基底结合牢固,无明显缺陷。
物理化学性能
该薄膜兼具高导电性与高透明性,导电性源于石墨烯的共轭π电子体系,透明性则因单原子层厚度对可见光吸收极低。化学稳定性优异,可耐受常见有机溶剂及弱酸弱碱环境。机械性能方面,杨氏模量达1 TPa,断裂强度约130 GPa,但玻璃基底限制了其柔性应用。热稳定性良好,在300℃以下无显著结构变化。
应用领域
主要用于光电功能器件领域,如透明导电电极替代氧化铟锡(ITO),应用于柔性显示屏、触摸屏及太阳能电池;作为表面增强拉曼散射(SERS)基底,用于痕量分子检测;还可作为光学窗口材料,集成于光电探测器中。科研领域常用于研究石墨烯与基底的界面相互作用及载流子传输机制。
市场供应与定制服务
国内供应商如西安齐岳生物、合肥微晶材料等提供标准化产品,尺寸涵盖1cm×1cm至20cm×20cm,支持层数(单层至8层)及基底(石英、云母等)定制。进口产品如ACS Material的1cm×1cm硅基底石墨烯膜价格约1400-1700元,国产玻璃基底产品价格更低,适合大规模科研测试。

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