您当前所在位置:首页 > 资讯信息 > 科研动态
CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钼连续薄膜,CAS:1317-33-5, Monolayer MoS₂ Continuous Film on SiO₂/Si
发布时间:2026-01-12     作者:YFF   分享到:

中文名称:CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钼连续薄膜
英文名称:Monolayer MoS₂ Continuous Film on SiO₂/Si

合成路径与结构表征

该薄膜通过CVD工艺在300纳米二氧化硅/硅基底上生长,以硫粉和三氧化钼为前驱体,在750℃下反应形成单层二硫化钼。薄膜覆盖度超过98%,表面呈现连续三角形畴区,畴区尺寸约5-20微米。X射线光电子能谱(XPS)显示硫与钼原子比为2:1,拉曼光谱中E²₁g峰(383 cm⁻¹)与A₁g峰(408 cm⁻¹)强度比约0.6,确认单层结构。

光学与电学特性

单层薄膜在550nm波长下透光率达95%,直接带隙约1.8 eV,光致发光量子产率约1%。电导率约10⁻⁵ S/cm,载流子迁移率约200 cm²/(V·s),开关比达10⁸,适用于低功耗逻辑器件。其光电响应度在405nm激光照射下可达0.1 A/W,响应时间小于10毫秒。

传感与催化应用

作为气体传感器,该薄膜对NO₂的检测限低至1 ppb,灵敏度达30%/ppm。在电催化领域,其边缘活性位点可驱动氢析出反应(HER),过电位仅150 mV(10 mA/cm²电流密度)。此外,薄膜可用于制备柔性光电探测器,在弯曲半径5毫米条件下性能衰减小于5%。

稳定性与封装技术

薄膜在空气中可稳定存在30天以上,但在湿度>80%环境中易发生氧化,导致导电性下降。封装工艺可采用原子层沉积(ALD)生长20纳米氧化铝保护层,使器件寿命延长至6个月以上。操作时需避免机械刮擦,建议使用硅探针进行电学测试。

CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钼连续薄膜

我们当前供应以下产品,欢迎与我们咨询!

供应商:西安齐岳生物科技有限公司

公司简介:

西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域,精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括:高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点(CdSe/ZnS、CdTe等)、多孔金属有机框架(MOF)纳米材料,以及表面功能化修饰的纳米载体(如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊)。产品粒径精准可控(5-2000纳米),支持定制化开发。

产品推荐:

Platinum Nanoparticles-NH2

Platinum Nanoparticles-PVP

Platinum Nanoparticles-CIT

PVA Magnetic Particles

CuS  Quantum Dots in Hexane

Cu2S Quantum Dots in Hexane

PVA Magnetic Particles-NH2

PVA Magnetic Particles-COOH


库存查询