近年来，多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)由于其特有的纳米笼状结构在材料领域引起了关注, OA-POSS分子结构中具有的氨基基团(-NH2) 经过生物偶联剂活化后可以与表面带负电基团( 如羧基-COOH)的量子点以共价键相连，从而修饰于量子点表面，增加量子点的生物相容性。这种方法合成过程简单，且制备的量子点仍然可以保持较小的尺寸，有利于其在生物医学领域的应用。

本文，我们以OA-POSS作为表面修饰剂合成了具有高生物相容性、光稳定性强的近红外发光的CdSeTe量子点，并将其成功应用于细胞标记研究。激光共聚焦荧光图片表明POSS-CdSeTe量子点确实可以进入细胞进而实现细胞标记应用。

我们将一 定量的偶联剂EDC加入到CdSeTe量子点溶液中搅拌30 min后，加入OA-POSS溶液后室温搅拌4 h,其中CdSeTe. EDC、OA-POSS的摩尔比为固定值1:5000:10。 反应结束后，将量子点按照5.2.2 中的方法提纯。经OA-POSS修饰前后的量子点分别记为CdSeTe量子点和POSS-CdSeTe量子点。

我们利用透射电子硅微镜(TEM)求评价POSS-CdSeTeL量子点的尺寸和形貌，荧光发射波长在681nm处的POSS-CdSeTeL呈均匀分散的近球形， 粒度分疖比较均一， 约为4.3nm.

OA-POSS修饰近红外发光CdSeTe量子点细胞标记研究

利用激光共聚焦荧光成像研究量子点对细胞的标记成像。染色后的细胞用Olympus FV300激光共聚焦系统辅以40x水镜(NA-1.25)扫描成像，光电倍增管采集荧光。微分干涉图像用488 nm Ar激光扫描，经570 nm以上光通道采集红色荧光信号，SiHa 细胞在60 μg/mL的浓度下孵育24 h后进行细胞成像。

OA-POSS修饰近红外发光CdSeTe量子点的光稳定性和稳定性测试

我们对POSS-CdSeTe量子点进行了光稳定性研究。为了测试POSS-CdSeTe量子点的光稳定性，将量子点溶液置于高功率紫外灯下连续辐照2h,间隔-定时间测试并记录量子点的荧光发射光谱强度，如下图所示，经过2 h的紫外光辐射后，POSS-CdSeTe 量子点荧光强度有轻微的下降，但依然保持着非常高的荧光强度，2 h辐照后的量子点荧光强度为初始强度的93%。

POSS种类繁多，其具体区别主要依据R基的种类和个数，因此其应用范围较广，名称也是根据R基的不同的取名，例如当R基为乙烯基、氨基、苯基时可分别称之为乙烯基POSS、氨基POSS和苯基POSS等等。西安齐岳生物供应的poss主要有： 甲基poss、乙基poss、 乙烯基poss、 苯基poss、 烯丙基poss和含氢poss等。 

八辛基笼状聚倍半硅氧烷

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八十二烷基笼状聚倍半硅氧烷

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八环氧环己基乙基笼状聚倍半硅氧

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八苯胺丙基笼状聚倍半硅氧烷

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丙烯酰氧丙基笼型聚倍半硅氧烷

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