酞菁|酞菁分子吸附在石墨烯拓扑缺陷上的变形和键合强度
发布时间:2021-12-28     作者:酞菁   分享到:
拓扑缺陷对游离基H2Pc和两种三维金属衍生物(CuPc和ZnPc)与石墨烯薄片模型相互作用的结合强度、几何形状和电子参数的影响。
将含有孤立五边形(5)、吡啶基(5665)和Stone-Wales (SW)缺陷的聚类模型与无缺陷的石墨烯模型(G)的DFT计算结果进行了比较。
石墨烯表面的拓扑结构对通常为平面的酞菁分子的形状有很强的影响。
在原始和含SW缺陷的模型上,石墨烯大环总体上保持平坦,但在大多数情况下,孤立的五边形缺陷和吡喃基单元的存在会导致酞菁体系的强烈畸变,从而增加其与石墨烯片的接触面积。
从而提供了两种组分间更**的π-π堆积作用。
在锥形5和5665纳米团簇的情况下,“endo”吸附的宏观环畸变比“exo”吸附的宏观环畸变更明显;反过来,5665型号的曲度更尖锐,更强。
所有研究的配合物的非共价键都很强,按5665_exo <5_exo <5665_endo <G & lt;西南。
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cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)
四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6
二氧化硅包覆菁染料壳核型纳米颗粒
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