射频磁控溅射技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基片上制备了柔性Al/Cu/ZnO多层薄膜，利用氮化硼(BN)层提高薄膜的光电性能稳定性。

通过分析不同BN层厚度的柔性BN/Al/Cu/ZnO多层膜的表面形貌、化学组成和光电性能，

发现BN层厚度为100 nm的BN/Al/Cu/ZnO薄膜(BN100/Al/Cu/ZnO)综合光电性能**，优值为0.82 × 10−3 Ω−1，并进一步研究了其性能随贮存温度和时间的变化。

发现比铝/铜/氧化锌薄膜,BN100 /铝/铜/氧化锌薄膜有更稳定的光电性质在不同储存温度和时间,这是推断是由于良好的氧化和热电阻的BN层有利于避免表面损伤和氧化的电影。

本工作的结果表明，BN层在提高柔性Al/Cu/ZnO薄膜光电性能稳定性方面发挥着关键作用，

为提高单层或多层柔性透明导电薄膜的热稳定性和长时间稳定性提供了一种可行的策略。

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