用溶剂热法制备Dy-酞菁单分子磁铁，并用Dy:Y = 3:7和1:9的抗磁性Y-酞菁稀释样品。

通过直流磁化率和交流磁化率的测量，研究了其磁弛豫过程。利用居里-魏斯定律对三种样品的直流磁化率进行拟合，发现三种样品均存在反铁磁耦合。

三种样品交流磁化率的同相和异相组分均表现出明显的频率和温度依赖性，这是单分子磁铁的**行为。用阿累尼乌斯定律在数量上估计的**能垒。稀释后的样品在磁滞环中的矫顽力都比对酞菁大。

以300 Oe/s的场扫描速率，在2 K下测量Dy:Y = 3:7和1:9的稀释样品的矫顽力场分别为485 Oe、551 Oe和747 Oe。该研究有助于了解磁弛豫机理和设计功能的单分子磁体。

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