酞菁|含羧酸基团的外周四取代酞菁的合成、表征及光物理化学性质
发布时间:2022-02-17     作者:酞菁   分享到:
合成了含羧酸基团的外周四取代无金属(H2Pc)、Mg(II) (MgPc)和In(III)CI (InPc)酞菁化合物,并利用多种光谱技术对其进行了表征。
研究了这些化合物在DMSO、DMF和THF中具有良好的溶解度的光物理、光化学和聚集特性。用DMSO和DMF研究了这些酞菁在不同浓度下的聚集行为。
研究了DMSO和DMF的光物理化学性质,包括荧光光谱、量子产率、单重态产氧和光降解行为,以阐明这些化合物作为光敏剂的可用性。
此外,还研究了金属离子的存在和不存在对这些酞菁光化学和光物理性质的影响。与无金属酞菁衍生物相比,金属酞菁(Mg(II)和In(III)CI)具有较高的单重态产氧效率。
根据单线态产氧效率,我们可以说,金属离子在酞菁环上的存在增加了单线态产氧。
结果表明,这些化合物在光动力**(PDT)中具有潜在的光敏剂应用前景。
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