镀铜硅基底碳纳米管,生长方式,生长条件控制
发布时间:2024-03-20     作者:axc   分享到:
镀铜硅基底碳纳米管,生长方式,生长条件控制
名称:镀铜硅基底碳纳米管
纯度:95%+
用途:科研
状态:固体/粉末/溶液
厂家:西安齐岳生物
镀铜硅基底碳纳米管是指在硅基底上生长碳纳米管,并在其表面镀上一层铜。这种结构通常用于电子器件、传感器和催化剂等领域。制备这种复合材料的一般步骤如下:
硅基底制备: 准备硅基底,通常是硅片或多孔硅。
碳纳米管生长: 在硅基底上使用化学气相沉积(CVD)或其他方法生长碳纳米管。在生长过程中,金属催化剂(如铁、镍等)被沉积在硅基底表面,用于促进碳纳米管的生长。
铜镀覆: 使用电化学沉积或其他镀覆方法,在生长好的碳纳米管表面镀覆一层铜。通常,硅基底上的碳纳米管表面需要**行表面处理,以提高铜的附着性。
后处理: 完成铜的沉积后,可能需要进行后处理步骤,如清洗、退火等,以改善复合材料的性能和结构。
西安齐岳生物提供蓝宝石基底、石英玻璃基底、硅基底的超薄碳纳米管阵列和超长碳纳米管阵列定制服务
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温馨提醒:仅供科研,不能用于人体实验AXC.2024.03.01