氧化镁MgO晶体基片用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜等

氧化镁（MgO）单晶基片应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2"及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

主要性能参数

生长方法：弧熔法

晶体结构：立方

晶格常数p;a=4.130Å 

熔点（℃）:2800

纯度:99.95%

密度（g/cm3）:3.58

硬度:5.5（mohs）

热膨胀系数（/℃）:11.2x10-6

晶体解理面<100>

光学透过:>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）

介电常数:ε=9.65

尺寸:10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，

厚度:0.5mm，1.0mm

抛光:单面或双面

晶向:<001>±0.5º

晶面定向精度:±0.5°

边缘定向精度:2°（特殊要求可达1°以内）

斜切晶片:可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片

主要特点

 由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

主要用途

用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

以上资料来自小编axc,2022.04.20

以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体。