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氨基(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅

氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅(Hollow Mesoporous Silica,简称HMPS)是指通过在中空介孔二氧化硅的表面引入氨基官能团,从而赋予其氨基丙基三乙氧基硅烷的特性。

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产品介绍

氨基(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅

氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅(Hollow Mesoporous Silica,简称HMPS)是指通过在中空介孔二氧化硅的表面引入氨基官能团,从而赋予其氨基丙基三乙氧基硅烷的特性。这样的修饰可以使中空介孔二氧化硅表面富含氨基,从而具有特定的化学性质和应用潜力。

厂家:西安齐岳生物科技有限公司

用途:科研

状态:固体/粉末/溶液

产地:西安

保存:冷藏

温馨提醒:仅供科研,不能用于人体实验

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参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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