氨基(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅
氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅(Hollow Mesoporous Silica,简称HMPS)是指通过在中空介孔二氧化硅的表面引入氨基官能团,从而赋予其氨基丙基三乙氧基硅烷的特性。
货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
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Q-0283694 | 100mg |
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Q-0283694 | 250mg |
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Q-0283694 | 500mg |
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业务范围:有机光电 | 电子材料 | 金属催化 | 多肽类 | 纳米产品
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产品介绍
氨基(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅
氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)修饰的中空介孔二氧化硅(Hollow Mesoporous Silica,简称HMPS)是指通过在中空介孔二氧化硅的表面引入氨基官能团,从而赋予其氨基丙基三乙氧基硅烷的特性。这样的修饰可以使中空介孔二氧化硅表面富含氨基,从而具有特定的化学性质和应用潜力。
厂家:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研
状态:固体/粉末/溶液
产地:西安
保存:冷藏
温馨提醒:仅供科研,不能用于人体实验
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参数信息 | |
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外观状态: | 固体或粉末 |
质量指标: | 95%+ |
溶解条件: | 有机溶剂/水 |
CAS号: | N/A |
分子量: | N/A |
储存条件: | -20℃避光保存 |
储存时间: | 1年 |
运输条件: | 室温2周 |
生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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