产品名称：超薄转移AAO膜 孔径400 nm 孔深500 nm，CAS:11092-32-3
一、基本描述
中文名：超薄转移AAO膜 孔径400 nm 孔深500 nm
英文名：Ultrathin Transferred Anodic Aluminum Oxide (AAO) Membrane, Pore Diameter 400 nm, Pore Depth 500 nm
CAS号：11092-32-3
该超薄转移AAO膜孔径为400 nm，孔深500 nm，属于大孔径、高孔深的纳米多孔氧化铝膜。膜体可完整转移至多种基底，保持高度有序的蜂窝状孔结构和连续垂直孔道。厚度适中，机械稳定性好，可承受基底转移、加工及功能化操作，广泛适用于微流控、纳米模板、光电子器件及大通量过滤应用。
二、物理化学性质、结构特性与应用
膜体呈蜂窝状有序孔道，孔径400 nm、孔深500 nm，孔道排列整齐、分布均匀，表面光滑平整。大孔径和高孔深提供了更大的通量和活性空间，可容纳较大颗粒、纳米结构或微流体流动。膜的热稳定性和化学稳定性均优良，可在酸碱环境及高温条件下保持结构完整。机械柔韧性使膜适合多种基底转移及器件装配。
应用方面，孔径400 nm、孔深500 nm的AAO膜可用于高通量微纳孔模板、纳米线/纳米柱阵列制备、微流控芯片、分子或纳米颗粒分离以及光子晶体器件。大孔径适合沉积高纵横比纳米结构或大分子过滤，同时膜体可作为柔性基底，用于功能性材料沉积、光电子器件或传感器阵列的模板化制备。孔壁可进一步修饰金属或氧化物，实现电化学催化、光学调控或生物功能化。
三、合成路线
高纯铝阳极氧化：使用高纯铝片在酸性电解液（如磷酸或草酸溶液）中进行多步阳极氧化，形成大孔径AAO膜。
孔径与孔深控制：通过酸蚀或二次阳极氧化精确调节孔径至400 nm，延长氧化时间控制孔深至500 nm。
膜剥离与转移：使用化学刻蚀去除铝基底，将膜完整转移至玻璃、硅片或柔性聚合物基底。
表征与验证：SEM、AFM及透射光学显微镜测量孔径均匀性、孔深及膜厚，同时测试机械稳定性和孔道连续性。
功能化与应用拓展：孔道可沉积金属、氧化物或聚合物，用作纳米模板、电化学器件或微流控芯片功能层。

厂家：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
温馨提醒：产品仅供科研，不能用于人体实验!

关于我们：
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