产品名称：六方氮化硼晶体，Hexagonal Boron Nitride Crystal，CAS:7440-42-8
基本描述
六方氮化硼晶体（Hexagonal Boron Nitride Crystal，CAS:7440-42-8，简称h-BN）是一种结构类似于石墨的层状化合物，由硼原子与氮原子以共价键交替形成六方网络结构。每一层内B-N键强度高，层间通过范德华力结合，使得h-BN具有优良的化学惰性、热稳定性和绝缘特性。六方氮化硼晶体广泛用于高温材料、电子器件基底以及润滑材料领域。
物理化学性质与结构特性
h-BN晶体呈白色或浅灰色，具有石墨状层片结构，密度约为2.1 g/cm³，熔点高达2973 K。六方晶系结构赋予其优良的热导性（沿平面方向高达400 W/m·K），同时保持电绝缘性。h-BN具有优良的化学稳定性，可耐酸碱腐蚀及氧化环境，在高温下仍能保持结构完整。层间滑移容易，因此表现出自润滑特性。此外，h-BN还具有高透明性和低介电常数，使其在光学和电子应用中表现优良。
应用
六方氮化硼晶体广泛应用于电子器件封装、绝缘衬底、热导材料及耐高温结构材料。其优良的热导性与电绝缘性组合使其适合作为功率半导体和散热器件的基底材料。在化工领域，h-BN用作高温润滑剂和防护涂层。在光电子学中，h-BN薄膜可用于深紫外光源和光学窗口。此外，h-BN纳米片在二维材料研究和复合材料制备中具有重要价值。
合成路线
h-BN晶体主要通过高温固相反应合成。以硼源（如硼酸、硼粉）与氮源（如氨气、尿素）在高温炉中加热至1200–2000°C，经过长时间保温得到六方晶体结构。另一种方法是化学气相沉积法（CVD），通过在高温下将硼烷（B2_22​H6_66​）与氨气反应沉积在金属基底上生长薄膜，可得到高质量六方氮化硼单晶或多晶薄膜。

厂家：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
温馨提醒：产品仅供科研，不能用于人体实验!

关于我们：
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