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Si片外延AIN薄膜

Si片外延AlN膜是通过HVPE方法生长，其实验衬底效果已日渐取代AlN单晶基片

货号 规格 数量 价格
Q-0049523 100mg
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Q-0049523 250mg
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Q-0049523 500mg
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Q-0049523 1g
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张惠宁销售经理
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业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
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产品介绍
AlN厚度：200nm ±10%, 单面镀膜 正面：<2nm RMS, as-grown 背面：silicon as received AlN晶向：(00.2) 宏缺陷密度：<10/cm^2 薄膜衬底：Si [111] N type, dia 4" x0.5 mm, res: 1~10 ohm-cm, 单抛 常规尺寸：dia 4" x0.5 mm,单抛
参数信息
外观状态： 固体或粉末
质量指标： 95%+
溶解条件： 有机溶剂/水
CAS号： N/A
分子量： N/A
储存条件： -20℃避光保存
储存时间： 1年
运输条件： 室温2周
生产厂家： 西安齐岳生物科技有限公司
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