PZT-NI磁电复合薄膜

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PZT-NI磁电复合薄膜

PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似，即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后，接着进行烘干和热裂解，重复以上步骤得到设计的厚度

货号	规格	数量	价格
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Q-0092929	250mg	1	询价
Q-0092929	500mg	1	询价
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产品介绍

PZT-NI

产品名称：PZT-NI

纯度：98%

包装：mg级和g级

货期：一周

地址：西安

厂家：西安齐岳生物科技有限公司

PZT-NI

PZT-Ni磁电复合薄膜的制备研究

PZTNi复合结构的制备工艺与PZT/Pt/Si 薄膜结构类似，即采用溶胶凝胶法在Ni基底上旋涂PZT溶胶后，接着进行烘干和热裂解，重复以上步骤得到设计的厚度后，进行终热处理，具体参数见二章。为了后续电学性能测试，需在PZT薄膜表面采用小型离子溅射仪溅射，直径为0.1 mm的Pt电极，其示意图及后续测量关系图如图3.2所示。

参数信息
外观状态：	固体或粉末
质量指标：	95%+
溶解条件：	有机溶剂/水
CAS号：	N/A
分子量：	N/A
储存条件：	-20℃避光保存
储存时间：	1年
运输条件：	室温2周
生产厂家：	西安齐岳生物科技有限公司

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