中文名称：CVD硅基底石墨烯膜
英文名称：CVD Graphene Film on Silicon Substrate

材料特性
CVD硅基底石墨烯膜通过化学气相沉积（CVD）技术制备，以单晶硅为基底，表面覆盖单层或多层石墨烯薄膜。其典型尺寸为2.5cm×2.5cm，层数可定制（单层、双层、3-5层或6-8层），纯度达99%以上。石墨烯薄膜具有高透光率（>97%）、高载流子迁移率及优异的机械柔韧性，与硅基底结合后兼具导电性与半导体特性，适用于需要高精度电子传输的场景。

制备工艺
制备过程分为两步：首先在高温下将含碳气体（如甲烷）分解，使碳原子在硅基底表面沉积形成石墨烯晶格；随后通过控制生长参数（如温度、气压、气体流量）调节层数与均匀性。转移工艺需避免薄膜破损，常用聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）辅助剥离，再通过湿法刻蚀去除临时载体。

应用领域
该材料主要用于科研实验与原型器件开发。在光电领域，可作为透明导电电极应用于柔性显示器、太阳能电池；在电子领域，可用于构建场效应晶体管、传感器阵列；在材料科学中，为研究石墨烯与硅的异质结特性提供理想平台。例如，南京理工大学曾利用类似材料开发柔性血压传感器，实现血管壁微小形变的实时监测。

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供应商：西安齐岳生物科技有限公司

公司简介：

西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域，精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括：高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点（CdSe/ZnS、CdTe等）、多孔金属有机框架（MOF）纳米材料，以及表面功能化修饰的纳米载体（如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊）。产品粒径精准可控（5-2000纳米），支持定制化开发。

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