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CVD石英基底石墨烯膜(圆形基底),CAS:7440-44-0,CVD-Grown Circular Monolayer Graphene on Quartz Substrate
发布时间:2026-01-12     作者:YFF   分享到:

中文名称:CVD石英基底圆形单层石墨烯膜
英文名称:
CVD-Grown Circular Monolayer Graphene on Quartz Substrate

结构特性:
采用化学气相沉积法在圆形石英基底表面生长单层石墨烯,通过转移工艺确保薄膜完整性与洁净度。石英基底的高化学稳定性与低热膨胀系数为石墨烯提供稳定支撑,避免因热应力导致的薄膜破裂。圆形设计适配光学器件与微电子芯片的加工需求。

物理化学性质:
单层石墨烯具有高载流子迁移率与低接触电阻,可提升芯片运行速度与能效比。石英基底的光学透明性(透光率>97%)与石墨烯的光电特性结合,适用于光电探测器与光调制器。其超高热导率(约5000瓦/米·开尔文)可有效解决高功率器件的散热问题。

制备工艺:
在铜箔表面生长石墨烯后,通过湿法或干法转移至石英基底。湿法转移需涂覆聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为支撑层,化学腐蚀铜基底后清洗并贴合至石英表面,最后去除PMMA;干法转移则利用热释放胶带实现无污染转移。转移过程需严格控制温度与应力,避免薄膜褶皱或破损。

应用领域:
该材料广泛应用于高端电子器件,如高频晶体管与透明导电薄膜。在光电子学领域,石英-石墨烯复合结构可用于制造高灵敏度光电传感器与太赫兹调制器。此外,其生物相容性使其在生物传感器开发中具有潜力,例如检测葡萄糖浓度或蛋白质结合事件。

CVD石英基底石墨烯膜(圆形基底)

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